Уф лазеры: Pagina non trovata — LasitLaserRus
Содержание
Лазерные системы, излучающие в ультрафиолетовой области спектра
Данные лазеры твердотельные (DPSS) с диодной (полупроводниковой) накачкой, излучают в ультрафиолетовом (УФ) диапазоне спектра. Технология производства УФ лазеров связана с множеством трудностей, но, несмотря на это, существуют некоторые источники УФ лазерного излучения. Изготовить Ультрафиолетовые лазеры можно двумя способами. Во-первых, используют твердотельные кристаллы на основе церия (Ce+3:LiCAF или Ce+3:LiLuF4), излучающие в УФ диапазоне, в большинстве случаев кристаллы церия накачивают наносекундными импульсами. Во-вторых, используются твердотельные кристаллы, излучающие в видимом или ближнем ИК диапазонах (Nd:YAG или Nd:YVO4), с последующим преобразованием частоты излучения на нелинейных кристаллах. Например, для генерации длины волны 355 нм используют ИК твердотельный кристалл (1064 нм) с последующим утроением частоты на нелинейном кристалле, а для 266 нм используют ИК твердотельный кристалл (1064 нм) с двумя последующими удвоениями частоты. Немалый интерес представляют собой УФ лазерные диоды на основе GaN и AlGaN, но применение их ограниченно из-за крайней нестабильности. При взаимодействии УФ излучения со следами углеводородов в воздухе на близлежащие поверхности (например, твердотельный и нелинейный кристаллы) оседают органические пленки, что приводит к ухудшению качества излучения, поэтому для более эффективной работы (особенно с длинами волн ≤200 нм) рекомендуют использовать вакуум. УФ излучение может привести к изменению химической структуры вещества (например, к разрыву связей), это свойство используют при производстве брэгговских решеток, а также для стерилизации воды и медицинских инструментов, отверждения компаундных составов (клей, эпоксидная смола). Мощные УФ лазеры эффективно используют для резки и прожигания небольших отверстий в различных материалах, в том числе, материалах, которые являются прозрачными для лазерного излучения видимого диапазона. УФ излучение вызывает флюоресценцию на поверхности некоторых материалов, это явление используют для аналитических исследований (например, контроль качества). Ультрафиолетовые лазеры могут быть непрерывные (CW) или импульсные (Q-switched pulsed). УФ диапазон достаточно перспективен для построения высокоточных информационных лазеров для связи. Использование лазеров для связи оказало большое влияние на развитие телекоммуникационных информационных систем контроля характеристик атмосферы. Повышенный интерес к лазерам для связи обусловлен их отличной пропускной способностью и эффективностью передачи информации.
Таблица 1. Ультрафиолетовые лазеры1производства VIASHO
Наименование | Длина волны | Выходная мощность2 | Нестабильность выходной мощности | Размер пучка на выходе | Расходимость | Особенности |
Диодный 375-395 нм | ||||||
375nm UVLaser | 375±5 нм | 10, 50, 100, 150 мВт | < 1%, < 5% | Эллипс 2×3 мм | ~1 мрад | Модовый состав Near TEM00 |
VA-I-DC-380-50mW | 380±5 нм | 50 мВт | < 5% | 1,3×3,1 мм | 2,2×0,8 мрад | Спектральная ширина линии < 1,5 нм |
VA-I-DC-380-100mW | 380±5 нм | 100 мВт | < 5% | 1,5×3,3 мм | 2,2×0,8 мрад | Спектральная ширина линии < 1,5 нм |
VA-I-DC-380-150mW | 380±5 нм | 150 мВт | < 5% | 1,8×3,5 мм | 2,2×0,8 мрад | Спектральная ширина линии < 1,5 нм |
1 – Лазер поставляется в комплекте с лазерным драйвером. |
Таблица 2. Ультрафиолетовые лазеры1производства CNI
Наименование | Длина волны | Выходная мощность | Нестабильность выходной мощности | Размер пучка на выходе, | Расходимость | Особенности |
Твердотельные 213 нм | ||||||
Импульсные пикосекундные | ||||||
DPS-213-Pico/1~30mW | 213±1 нм | 10, 30 мВт | < 1%, < 3% | ~2 мм | < 3 мрад | Ширина импульса < 50пс |
Твердотельные 223 нм | ||||||
Импульсные наносекундные | ||||||
EO-XS-223/1~3µJ/1~30mW | 223±1 нм | Средняя 1~30 мВт | Средняя < 3%, < 5% | Эллипс 1×4 мм (1/e2) | < 3 мрад | Длительность импульса ~4нс |
Твердотельные 244 нм | ||||||
Импульсные наносекундные | ||||||
AO-DF -244/1~15mW | 244±1 нм | Средняя 1~15 мВт | < 5%, < 10% | — | — | Длительность импульса < 30нс, водяное охлаждение |
Твердотельные 257 нм | ||||||
Импульсные наносекундные | ||||||
MPL-N-257/0. 1~4uJ/1~15mW | 257±1 нм | Средняя 1~15 мВт | < 10% | Эллипс 0,5×2 мм | — | Длительность импульса ~10нс, модовый состав NearTEM00 |
Твердотельные 261 нм | ||||||
Непрерывные | ||||||
UV-F-261/1~5mW | 261±1 нм | > 1, 2, 3, 4, 5 мВт | < 10% | ~2 мм | < 6 мрад | Модовый состав Near TEM00 |
Импульсные наносекундные | ||||||
MPL-F-261/0.1~4uJ/1~10mW | 261±1 нм | Средняя 1~10 мВт | Средняя < 5%, < 10% | Эллипс ~0,5×2 мм | — | Длительность импульса ~4нс, модовый состав NearTEM00 |
Твердотельные 266 нм | ||||||
Пассивные импульсные | ||||||
MPL-F-266/0. 1~3uJ/1~10mW | 266±1 нм | Средняя 1~10 мВт | Средняя < 5%, < 10% | Эллипс ~0,5×2 мм | — | Длительность импульса ~5нс, модовый состав NearTEM00 |
MPL-Q-266/0.1~3uJ/1~30mW | 266±1 нм | Средняя 1~30 мВт | Средняя < 5%, < 10% | < 1,2 мм | — | Длительность импульса ~4нс / ~1,3нс, модовый состав NearTEM00 |
MPL-Q1-266/10uJ/10mW | 266±1 нм | Макс. средняя ~10мВт | Средняя < 5%, < 10% | < 1,2 мм | — | Длительность импульса ~1нс, модовый состав NearTEM00 |
MPL-N-266/0.1~10uJ/1~120mW | 266±1 нм | Средняя 1~30 / 20~30 /30~120 мВт | Средняя < 5%, < 10% | Эллипс ~0,5×2 мм | Длительность импульса ~1,3нс / ~5нс / ~6нс, модовый состав NearTEM00 | |
MPL-W-266/5~30µJ/50~600mW | 266±1 нм | Средняя 50~600 мВт | Средняя < 3%, < 5% | ~2 мм (1/e2) | < 2 мрад | Длительность импульса ~5нс, модовый состав NearTEM00 |
Активные импульсные | ||||||
AO-S-266/1-5μJ/1-10mW | 266±1 нм | Средняя 1~10 мВт | Средняя < 3%, < 5%, < 10% | Эллипс ~1,5×0,4 мм | — | Длительность импульса ~4нс, модовый состав NearTEM00 |
AO-W-266/1~20µJ/1~200mW | 266±1 нм | Средняя 1~200 мВт | Средняя < 3%, < 5% | ~2 мм (1/e2) | < 3,5 мрад | Длительность импульса 10~15нс |
EO-266-G/4~100uJ | 266±1 нм | — | Средняя < 2%, < 3% | ~1 мм | < 3 мрад | Длительность импульса < 9нс / < 9нс / < 13нс, хорошее качество пучка |
EO-266-N/4~150uJ | 266±1 нм | — | Средняя < 2%, < 3% | ~1 мм | < 3 мрад | Длительность импульса < 5нс / < 5нс / < 13нс / < 10нс |
DPS-266-Q/2~5mJ | 266±1 нм | — | — | ~1 мм | < 3 мрад | Длительность импульса < 5нс / < 5нс / < 13нс / < 10нс |
Пикосекундные импульсные | ||||||
PS-R-266/1~50mW | 266±1 нм | > 1, 5, 10, …, 50 мВт | Средняя < 3%, < 5% | ~3 мм (1/e2) | < 4 мрад | Длительность импульса 10~20пс, модовый состав TEM00, водяное охлаждение |
DPS-266-Pico/100~500mW | 266±1 нм | 200мВт / 500мВт | Средняя < 1%, < 3% | ~2 мм | < 3 мрад | Длительность импульса < 50пс, частота повторений 5МГц |
Твердотельные 273 нм | ||||||
Непрерывные | ||||||
UV-FN-273 /1~5mW | 273±1 нм | > 1, 2, 3, 4, 5 мВт | < 10% | ~1,5 мм (1/e2) | < 1 мрад | Модовый состав Near TEM00 |
Твердотельные 289 нм | ||||||
Импульсные наносекундные | ||||||
AO-K -289/1~50mW | 289±2 нм | Средняя 1~50 мВт | < 3%, < 5% | Эллипс ~1,5×3 мм (1/e2) | < 1 мрад | Акусто-оптический импульс, длительность импульса 10±2нс |
Твердотельные 295 нм | ||||||
Импульсные наносекундные | ||||||
AO-K -295/1~50mW | 295±2 нм | Средняя 1~50 мВт | < 3%, < 5% | Эллипс ~1,5×3 мм (1/e2) | < 1 мрад | Акусто-оптический импульс, длительность импульса 10±2нс |
AO-DF-295/1~80mW | 295±1 нм | Средняя 1~80 мВт | < 5%, < 10% | — | — | Акусто-оптический импульс, длительность импульса ~30нс |
Твердотельные 303 нм | ||||||
Непрерывные | ||||||
UV-F-303/1~5mW | 303±1 нм | > 1, 2, 3, 4, 5 мВт | < 10% | ~3 мм | < 6 мрад | Модовый состав Near TEM00 |
Твердотельные 320 нм | ||||||
Непрерывные | ||||||
UV-F-320/1~20mW | 320±1 нм | > 1, 2, …, 20 мВт | < 5%, < 10% | ~1,5 мм | < 2,5 мрад | Модовый состав Near TEM00 |
Импульсные наносекундные | ||||||
AO-XF-320/1~6µJ/1~80mW | 320±1 нм | Средняя 1~80 мВт | < 3%, < 5% | ~1,5 мм | < 2 мрад | Акусто-оптический импульс, длительность импульса < 30нс |
Твердотельные 335 нм | ||||||
Непрерывные | ||||||
UV-F-335/1~60mW | 335±1 нм | > 1, 2, …, 60 мВт | < 3%, < 5%, < 10% | ~1,5 мм | < 2,5 мрад | Модовый состав Near TEM00 |
Импульсные наносекундные | ||||||
EO-XS-335/1~50µJ/1~500mW | 335±1 нм | Средняя 1~500 мВт | Средняя < 3%, < 5% | ~1,5 мм (1/e2) | < 3 мрад | Электро-оптический импульс, длительность импульса ~4нс |
Твердотельные 349 нм | ||||||
Высокостабильные непрерывные | ||||||
UV-F-349/1~100mW | 349±1 нм | > 1, 2, …, 100 мВт | < 3%, < 5%, < 10% | ~1,5 мм | < 1 мрад | Модовый состав Near TEM00 |
Пассивные импульсные | ||||||
MPL-F-349/0. 1~10µJ/1~30mW | 349±1 нм | Средняя 1~30 мВт | Средняя < 5%, < 10% | ~2 мм | < 1,5 мрад | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса ~4нс |
Активные импульсные | ||||||
AO-S-349/1~8μJ/1~15mW | 349±1 нм | Средняя 1~15 мВт | < 3%, < 5%, < 10% | ~0,3 мм | < 5 мрад | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса 6~10нс |
~1,2 мм | < 1,5 мрад | |||||
AO-V-349/1~267µJ/1~800mW | 349±1 нм | Средняя 1~800 мВт | Средняя < 3%, < 5% | ~2 мм (1/e2) | < 2 мрад | Длительность импульса ~10нс |
Твердотельные 351 нм | ||||||
Пассивные импульсные | ||||||
MPL-F-351/0. 1~4µJ/1~10mW | 351±1 нм | Средняя 1~10 мВт | Средняя < 5%, < 10% | ~2 мм | < 1,5 мрад | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса ~4нс |
Активные импульсные | ||||||
AO-S-351/1~15μJ/1~30mW | 351±1 нм | Средняя 1~30 мВт | Средняя < 3%, < 5%, < 10% | ~0,3 мм (1/e2) | < 5 мрад | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса 6~10нс |
~1,2 мм (1/e2) | < 1,5 мрад | |||||
AO-V-351/1~167µJ/1~500mW | 351±1 нм | Средняя 1~500 мВт | Средняя < 3%, < 5% | ~2 мм (1/e2) | < 2 мрад | Длительность импульса ~10нс |
Твердотельные 355 нм | ||||||
Пассивные импульсные | ||||||
MPL-F-355/0. 1~15uJ/1~100mW | 355±1 нм | Средняя 1~100 мВт | Средняя < 5%, < 10% | ~2 мм | < 1,5 мрад | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса ~5нс |
MPL-Q-355/0.1~15uJ/1~150mW | 355±1 нм | Средняя 1~150 мВт | Средняя < 5%, < 10% | < 1,2 мм | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса ~4нс / ~1,3нс | |
MPL-N-355/0.1~90uJ/1~800mW | 355±1 нм | Средняя 1~150 мВт | Средняя < 3%, < 5% | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса ~1,3нс | ||
Средняя 150~800 мВт | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса ~7нс | |||||
MPL-W-355/25~80µJ/400~2000mW | 355±1 нм | Средняя 400-2000 мВт | Средняя < 3%, < 5% | ~2 мм (1/e2) | < 2 мрад | Модовый состав NearTEM00, длительность импульса ~5нс |
Активные импульсные | ||||||
AO-S-355/1~40μJ/1~100mW | 355±1 нм | Средняя 1~100 мВт | Средняя < 3%, < 5%, < 10% | ~1,2 мм (1/e2) | < 1,5 мрад | Модовый состав NearTEM00, акусто-оптический импульс, длительность импульса 5~10нс |
~0,3 мм (1/e2) | < 5 мрад | |||||
AO-L-355 /1~100µJ/1~300mW | 355±1 нм | Средняя 1~300 мВт | Средняя < 3%, < 5% | < 2,5 мм (1/e2) | < 3 мрад | Акусто-оптический импульс, длительность импульса тип. ~6нс |
AO-V-355 /1~100µJ/1~2W | 355±1 нм | Средняя 1000~2000 мВт | Средняя < 3%, < 5% | < 1,5 мм (1/e2) | < 2 мрад | Акусто-оптический импульс, длительность импульса тип. ~15нс |
AO-V-355-Water /1~250µJ/1~5W | 355±1 нм | Средняя 1000~5000 мВт | Средняя < 3%, < 5% | < 1,3 мм (1/e2) | < 2 мрад | Акусто-оптический импульс, длительность импульса тип. ~15нс, водяное охлаждение |
EO-XS-355/1~50µJ/1~2W | 355±1 нм | Средняя 1000~2000 мВт | Средняя < 3%, < 5% | ~1,5 мм (1/e2) | < 3 мрад | Электро-оптический импульс, длительность импульса ~4нс |
EO-355-G/4~150uJ | 355±1 нм | Средняя < 2%, < 3% | ~1 мм | < 3 мрад | Электро-оптический импульс, длительность импульса < 6нс / < 6нс / < 13нс, хорошее качество пучка | |
EO-355-N/4~250uJ | 355±1 нм | Средняя < 2%, < 3% | ~1 мм | < 3 мрад | Электро-оптический импульс, длительность импульса < 6нс / < 6нс / < 13нс / < 10нс | |
DPS-355-E/1~2mJ | 355±1 нм | ~1 мм | < 3 мрад | Электро-оптический импульс, длительность импульса < 4нс | ||
DPS-355-Q/2~10mJ | 355±1 нм | ~2 мм / ~2,5 мм / ~3 мм | < 3 мрад | Электро-оптический импульс, длительность импульса < 10нс, водяное охлаждение | ||
Пикосекундные импульсные | ||||||
DPS-355-Pico/100~700mW | 355±1 нм | Средняя 300 / 700 мВт | < 1%, < 3% | ~2 мм | < 3 мрад | Ширина импульса < 50пс |
PS-R-355/1~2000mW | 355±1 нм | > 1, 5, 10, …, 2000 мВт | < 3%, < 5% | ~3 мм | < 4 мрад | Длительность импульса 10~20пс |
Твердотельные 360 нм | ||||||
Высокостабильные | ||||||
UV-FN-360 /1~50mW | 360±1 нм | > 1, 10, 20, …, 50 мВт | < 3%, < 5%, < 10% | ~1,5 мм (1/e2) | < 1 мрад | Модовый состав NearTEM00, без вентилятора |
UV-F-360 /1~100mW | 360±1 нм | > 1, 10, 20, …, 100 мВт | < 1%, < 2%, < 3%, < 5% | ~1,2 мм (1/e2) | < 1 мрад | Модовый состав NearTEM00 |
UV-FN-360-PL /100~200mW | 360±1 нм | 110, …, 200 мВт | < 5%, < 10% | ~1,5 мм (1/e2) | < 1 мрад | Модовый состав NearTEM00 |
С пониженным шумом | ||||||
MLL -F-360 /1~50mW | 360±1 нм | > 1, 2, 3, …, 50 мВт | < 1%, < 2%, < 3%, < 5% | ~1,5 мм (1/e2) | < 1 мрад | Модовый состав NearTEM00, шум по амплитуде < 1% / < 0,5% |
Одночастотные | ||||||
MSL-F-360/1~50mW | 360±1 нм | > 1, 2, 3, …, 50 мВт | < 3%, < 5% | ~1,5 мм (1/e2) | < 1 мрад | Модовый состав NearTEM00, SLM |
Диодные 375 нм | ||||||
Высокостабильные | ||||||
MDL-XS-375/1~50mW | 375±5 нм | > 1, 2, 3, …, 50 мВт | < 1%, < 2%, < 3% | ~1,2 мм (1/e2) | < 1 мрад | Модовый состав NearTEM00, М2 < 1,5, встроенная электроника |
MDL-III-375L/1~50mW | 375±5 нм | 10, 20, …, 50 мВт | < 1%, < 2%, < 3% | ~3 мм (1/e2) | < 0,5 мрад | Модовый состав NearTEM00, М2 < 1,5 |
MDL-III-380/1~150mW | 380±5 нм | 10, 50, …, 150 мВт | < 1%, < 2% (< 0,5% по запросу) | 1,5×3,5 мм (1/e2) | 2,3×0,2 мрад | Модовый состав Multimode |
MDL-SD-380/150-300mW | 380±5 нм | 150, 200, …, 300 мВт | < 1%, < 2% | 4×4,5 мм | 1,5 мрад | Поляризация Вертикальная + Горизонтальная |
MDL-III-375/50~400mW | 375±5 нм | 60, …, 150, 200, …, 400 мВт | < 1%, < 2%, < 3% | < 1,5×3,5 мм | ~2,3×0,2 мрад | Модовый состав Multimode |
MDL-SD-375/400-800mW | 375±5 нм | > 400, 500, …, 800 мВт | < 1%, < 2%, < 3% | ~4×4,5 мм | ~1,5 мрад | Поляризация Горизонтальная + Вертикальная |
С узкой спектральной линией | ||||||
MDL-E-375/1~20mW | 375±0,5 нм | > 1, 2, 3, …, 20 мВт | < 1%, < 2%, < 3% | ~3 мм (1/e2) | < 0,5 мрад | Модовый состав NearTEM00, М2 < 1,5, ширина спектральной линии < 0,06нм / < 0,03нм |
С пониженным шумом | ||||||
MLL-III-375L/1~50mW | 375±5 нм | > 1, 10, 20, …, 50 мВт | < 1%, < 2%, < 3% | ~3 мм (1/e2) | < 0,5 мрад | Модовый состав NearTEM00, шум по амплитуде < 1% |
MLL-III-380/1~150mW | 380±5 нм | > 1, 10, 20, …, 150 мВт | < 1%, < 2% (< 0,5% по запросу) | < 1,5×3,5 мм | ~2,3×0,2 мрад | Модовый состав Multimode, шум по амплитуде < 1% |
MLL-III-375/50~400mW | 375±5 нм | 60, …, 150, 200, …, 400 мВт | < 1%, < 2%, < 3% | < 1,5×3,5 мм | ~2,3×0,2 мрад | Модовый состав Multimode, шум по амплитуде < 1% |
1 – Лазер поставляется в комплекте с лазерным драйвером. |
Данные в таблицах не являются публичной офертой и носят информационный характер.
Если у Вас появились вопросы, Вы желаете купить ультрафиолетовый лазер (УФ), хотите узнать о возможности продажи других моделей лазеров, не представленных на сайте, звоните по телефонам: 8 (800) 555-80-53 и +7 (812) 448-08-13 или пишите на электронную почту [email protected]
С ассортиментом УФ лазеров российского производства Вы можете ознакомиться на странице сайта.
Ультрафиолетовый лазерный маркиратор с излучателем IPG
Первый в России УФ-излучатель IPG. Уникальная технология, которая отличается от СО2 и оптоволоконных лазеров.
Первое, что хочется написать, что на начало двадцать первого года УФ маркеры— уникальная для России технология, которую презентует компания IPG и нам тоже посчастливилось стать первопроходцами вместе с ними, поэтому спасибо им за доверие.
Как 5 лет назад для большинства людей иттербиевые волоконные лазеры производили вау эффект, а сейчас являются обыденностью, так уф лазеры сейчас — это будущее лазерных технологий!
В чем отличие УФ маркера от оптоволоконных и СО2 лазеров?
Обычно на рынке вы можете увидеть оптоволоконные и СО2 лазерные маркираторы. Они могут как резать, так и гравировать и маркировать, все это вы можете подробнее посмотреть на нашем канале Youtube.
И все эти станки имеют инфракрасное излучение. У иттербиевого лазера это 1 микрометр у, так называемое ближнее инфракрасное излучение, а у СО2 — это 9,4 или 10,6 микрометров — дальнее инфракрасное излучение. Один микрометр — это тысяча нанометров.
Ультрафиолетовые же источники дают излучение с другой длиной волны. И конкретно этот лазерный маркиратор — триста пятьдесят пять нанометров.
Для получения ультрафиолета нужна более сложная технология, там тоже используется диодная накачка и с помощью системы из двух нелинейных кристаллов титанил-фосфата калия, длина волны из 1064 нанометров преобразуется сначала в 532 нанометра, а потом уже в 355. В дебри мы сейчас углубляться не будем.
Нам важно, что эта технология позволяет получить более короткую длину волны и меньший диаметр пятна, так как они, кстати, напрямую связаны между собой. То есть УФ лазер с длиной волны в 355 нанометров потенциально имеет в тридцать раз меньший диаметр пятна, чем СО2 лазер.
Кроме того мы получаем лазерное излучение с высокой энергией квантов, а это повышает энергоемкость потока лазерного излучения.
Все это в совокупности в свою очередь позволяет очень эффективно обрабатывать огромный спектр как органических, так и неорганических материалов — от дерева и стекла до металлов и пластиков. Причём полный список материалов действительно впечатляет.
Материалы на которых способен гравировать UF маркер
- Пластики
АБС, ПВХ, ПБТ, полистирол и другие пластики, по сути практически все, в том числе прозрачные, которые широко используются во множестве индустрий, в том числе в производстве техники, упаковке и рекламе.
С этим маркиратором вы можете наносить изображение или текст даже на полиэтиленовые пакеты.
Помимо всего вышеперечисленного УФ-маркер отлично работает по различным видам резины и силиконовыми материалами.
- Стекло
Если продолжить тему с прозрачными материалами, то это стекло. От недорогих натриево-кальциевых до высококачественных боросиликатных стекол.
В том числе это закаленное стекло, стекло оптических приборов, а также некоторые усиленные типы стекла с противоударным эффектом.
Преимущество УФ-лазера в том, что благодаря небольшому диаметру пятна мы получаем маленькую зону теплового воздействия, а это снижает тепловую нагрузку, что снижает образование микротрещин.
Также УФ-лазер позволяет работать с другими хрупкими материалами, такими, например, как керамика и сапфир.
- Органические материалы
Следующее преимущество этого лазера в том, что он способен работать с органическими материалами, такими как дерево, кожа и камень.
Некоторые особо предприимчивые люди используют его даже для маркировки на фруктах.
Также благодаря низкой мощности можно гравировать некоторые ткани и бумагу. По бумаге можно достичь как отлично читаемой довольно тёмной маркировки, так и даже вырезать кружева или любые другие узоры.
Ультрафиолетовый лазер в отличие от СО2 не карбонизирует бумагу, то есть не обжигает её.
Металлы
Длина волны УФ лазера отлично поглощается металлами (Cu, Ni, Au, Ag), что позволяет выполнять прецизионную обработку таких материалов, как, например, фольга. Можно прошивать отверстия, диаметр которых будет измеряться в микрометрах. Нержавейка, чернина, медь.
Способы применения
Благодаря своей прецизионности, высокой точности и значительно меньшему диаметру лазерного излучения, чем у других лазерных технологий, ультрафиолетовые лазеры часто используют для микрообработки, а также для работы с металлами, неметаллами и хрупкими материалами.
Давайте в первую очередь поговорим о печатных платах.
Подходит для прецизионной обработки электронных компонентов, маркировки печатных плат и микрочипов, солнечных батарей, точной маркировки медицинских инструментов, а также всех видов стекла, керамики, LED панелей, пластиков, бумаги, активно применяются на производстве кабелей, позволяя наносить контрастную маркировку с высоким разрешением на изоляцию кабеля любого диаметра, а также идентификационную информацию (серийные номера, QR-коды, штрих-коды и т. д.) на поверхности материалов широкого спектра, в том числе на «трудные материалы»: сшитый полиэтилен, полиэтилен, ПВХ и др.
- Изготовление печатных плат
УФ лазеры отлично подходят для работы с печатными платами. По сути плата — это непроводящая электрический ток пластинка текстолита с нанесённым на неё слоем меди.
С подобным оборудованием вы можете прошивать отверстия, резать платы, выделять готовые элементы из микросхем, создавать контуры цепей, карманы для встраивания микросхем и делать фотолитографию.
Кроме того ультрафиолетовый лазер работает с широким спектром материалов, которые используются в этой сфере: начиная от FR-4 и подобных подложек на основе смол и керамики (FR‑1, FR‑2, FR‑4, CEM‑3) с высокой скоростью и без расслоения, заканчивая высокочастотными керамическими композитами и материалами для гибких печатных плат, в том числе полиамид.
УФ лазеры также отлично подходят для работы с гибкими платами.
- Абляция
Лазерный маркиратор при правильных настройках может испарять верхний слой материала, не повреждая и не деформируя его. Это называется абляция.
- Гравировка и маркировка
Стоит обратить внимание, что благодаря низкой мощности УФ лазер маркирует поверхность так, что вы совершенно не чувствуете никакого рельефа, но зато это оборудование не делает глубокую гравировку.
Даже если сделать много проходов, то есть повторить маркировку по одному и тому же месту несколько раз, то мы всё равно не сможем добиться такого результата, как например с иттербиевым лазером.
Преимущества ультрафиолетового маркиратора
В комплектацию конечно же входит оригинальный сканатор от IPG, которые обеспечивают высокую скорость и точность работы. К отличительным преимуществам УФ маркера относят:
- Перманентное изображение, устойчивое к механическому воздействию, кислотным и щелочным средам, высоким и низким температурам
- Безостановочная маркировка
- Маркировка серийных номеров, штрих-кодов, QR-кодов, логотипов, графических рисунков любой сложности
- 24 – часовая непрерывная работа Программное обеспечение практически полностью исключает брак Не требует обслуживания Не нуждается в создании специальных рабочих условий Может быть встроена в любую производственную линию
- Высокое разрешение ≥500 DPI
- Экологически безопасно
Есть две возможных комплектации — с интегрированным управлением от IPG и без него со сторонним контроллером.
Есть две возможных комплектации — с интегрированным управлением от IPG и без него со сторонним контроллером.
Не требует никаких дополнительных расходных материалов. Мы даём гарантию 1 год на этот УФ маркер, но предположительный срок жизни подобного оборудования от 10 лет и, как показывает практика, IPG можно доверять в плане долговечности оборудования. То есть вы можете купить этот маркер и в следующие 10 лет он будет работать без каких-либо дополнительных расходников. Вам не нужно будет к нему ничего докупать.
Если вам понадобится пусконаладка или обучение, наши штатные инженеры всегда готовы вам помочь, мы выезжаем по всей России и странам СНГ.
Видео «Лазерный УФ маркиратор Wattsan c излучателем IPG. Маркировка продукции, цветная маркировка металлов»
Ультрафиолетовые лазеры | УФ-лазеры, диоды и модули
- Обзор
- Поиск продукта
- Ряд
- Часто задаваемые вопросы
- Техническая документация/блоги
Что такое ультрафиолетовые лазеры?
Ультрафиолетовые лазеры (УФ-лазеры) излучают УФ-лазерный свет, обычно в диапазоне от 200 до 389 нм. УФ-лазеры обладают чрезвычайно высокой энергией фотонов, что открывает широкий спектр применений, недоступных для лазеров видимого и инфракрасного диапазона. Наиболее распространенными источниками УФ-лазеров являются третья и четвертая гармоники на Nd: YAG, обеспечивающие длины волн 355 нм и 266 нм соответственно. Важно отметить, что в то время как 355 нм и 266 нм являются наиболее распространенными длинами волн УФ-лазеров, несколько других линий Nd: YAG могут иметь удвоенную и утроенную частоту, создавая большой выбор альтернативных длин волн УФ-излучения. Чтобы получить эти гармоники более высокого порядка, плотность электрического поля лазера должна быть чрезвычайно высокой. В результате эти лазеры в основном доступны с возможностью модуляции добротности. Лазерные УФ-диоды непрерывного действия (CW) также доступны с длиной волны 375 нм, с одномодовыми и многомодовыми профилями луча и выходами в свободном пространстве или с оптоволоконным соединением.
Наша УФ-лазерная продукция
Мы предлагаем множество различных типов лазеров с УФ-излучением, в том числе лазерные диоды с одним излучателем, модули лазерных диодов, непрерывные лазеры DPSS, импульсные лазеры DPSS, лазеры с микросхемами, лазеры MIL-Spec и системы микрообработки. Наши УФ-изделия доступны со средней мощностью до 20 Вт, вариантами для одномодового или многомодового, свободного пространства или оптоволоконного выхода, а также различными вариантами компоновки и уровнями интеграции от компонентов до OEM и систем «под ключ».
Подробное изучение ультрафиолетовых лазеров
Некоторые области применения УФ-лазеров
Некоторые популярные области применения УФ-излучения включают микрообработку, спектроскопию лазерно-индуцированного пробоя (LIBS), флуоресценцию, рамановскую спектроскопию и многие другие.
Проточная цитометрия: основы применения, исходные требования и решения
Существует множество различных приложений, основанных на проточной цитометрии. Имея в вашем распоряжении несколько длин волн, допускающих такие разнообразные комбинации, как упомянуто выше, все эти приложения становятся более доступными. Некоторые из этих приложений включают сортировку клеток, фенотипирование иммунных клеток (иммунофенотипирование), анализ функции иммунных клеток, анализ окрашивания внутриклеточных цитокинов, анализ занятости рецепторов, генную терапию, анализ клеточного цикла, пролиферацию клеток, мембранный потенциал, различение живых и мертвых бактерий, супрессоры опухолей. экспрессия генов/белков, антиген-специфические клеточные ответы и многие другие.
Так же, как и при традиционном подсчете частиц, эти лазеры должны демонстрировать превосходное наведение и стабильность мощности, а также работать в одномодовом режиме с низким уровнем шума (обычно в свободном пространстве). Однако, в отличие от обычных систем подсчета частиц, длины волн необходимо выбирать так, чтобы они соответствовали спектрам возбуждения доступных флуорофоров. Типичные длины волн включают 355 нм, 405 нм, 473 нм, 488 нм, 532 нм, 553 нм, 561 нм, 594 нм, 640 нм и БИК с выходной мощностью в диапазоне 25-500 мВт. Кроме того, поскольку несколько лазеров интегрируются в единую систему, размер, стоимость и простота интеграции становятся важными факторами при выборе лазера. Здесь, в RPMC Lasers, мы предлагаем уникальный сверхкомпактный лазерный источник, способный обеспечить малошумящий (обычно 0,4%) одномодовый (типичный M 2 из 1.3) выходной луч с размерами корпуса лазера всего 50 мм x 30 мм x 18 мм. Эти лазеры доступны с длиной волны от 405 нм до 1064 нм и способны производить выходную мощность до 500 мВт.
Полный текст статьи читайте здесь.
Лазерные диоды из нитрида галлия (GaN): зеленые, синие и ультрафиолетовые длины волн
Полупроводниковые устройства могут быть спроектированы так, чтобы они имели определенную ширину запрещенной зоны, путем объединения различных элементов в бинарные, тройные и четверные сплавы. Эти полупроводники могут иметь дополнительную ширину запрещенной зоны, изменяя стехиометрию в тройных и четверных полупроводниках. В нашем конкретном случае видимые лазерные диоды могут быть изготовлены из комбинации нитридных материалов, таких как нитрид алюминия (AlN), GaN и нитрид индия (InN), создавая, например, лазерные диоды AlGaN и InGaN. Полученный сплав, который обычно называют просто GaN, теоретически может быть объединен с использованием следующих формул Al x Ga 1-x N и Al x In y Ga 1-x-y N для формирования любой запрещенной зоны, которая попадает в «банан», показанный на рисунке ниже.
Революция зеленых, синих и ультрафиолетовых лазерных диодов
На практике материаловедение, связанное с стабильным производством структур лазерных диодов любой произвольной стехиометрии, является гораздо более сложной задачей. Как указывалось ранее, в течение многих лет считалось, что эти проблемы никогда не будут преодолены, до 19 века.96, когда Сюдзи Накамура изобрел первый лазерный диод AlGaN. Работа Накамуры с полупроводниковыми лазерами и светодиодами на основе GaN была настолько революционной, что позже он был удостоен Нобелевской премии по физике. За последние 20 лет технология изготовления лазерных диодов на основе нитрида галлия (GaN) превратилась в отдельную область оптоэлектроники. Эти лазерные диоды теперь доступны с длиной волны от 375 нм до 521 нм, с выходной мощностью более 100 Вт…
Прочитайте полную статью здесь.
Высокоэнергетические лазеры с модуляцией добротности для генерации гармоник – часть 1
Ранее мы обсуждали физику генерации гармоник. Самый важный вывод из этих обсуждений заключается в том, что, как правило, есть два способа повысить эффективность генерации гармоник: увеличение пиковой мощности и уменьшение размера пятна. Поскольку Quantas-Q2HE имеет колоколообразный профиль луча с более чем 75-процентной гауссовской аппроксимацией сверх чрезвычайно высокой пиковой мощности, о которой говорилось ранее, он полезен не только для генерации второй гармоники, но и для генерации третьей, четвертой и пятой гармоник. хорошо. В результате Q2HE может производить ультрафиолетовые лазеры с длиной волны всего 211 нм. Quantas-Q2HE доступен в семи различных конфигурациях, каждая из которых может генерировать свет пятой гармоники, как показано в таблице ниже…
Полный текст статьи читайте здесь.
Microchip Laser Гармоники вплоть до УФ-диапазона
Удивительно, но такая геометрия резонатора позволяет генерировать лазер с короткой шириной импульса (субнаносекундный) с высокой пиковой мощностью, часто превышающей десятки киловатт. Это делает эти лазеры идеальными как для внешней, так и для внутрирезонаторной генерации гармоник. Генерация второй гармоники во внешнем резонаторе была впервые достигнута в 1996 году путем приклеивания тонкого кристалла KTP, который имеет покрытие, обладающее высокой отражающей способностью при 1064 нм и антиотражающим при 532 нм, а затем приклеен к передней части микрочипового лазера Nd: YVO4. В течение двух лет были также продемонстрированы микрочиповые лазеры третьей и четвертой гармоник с использованием внешнего кристалла для производства ультрафиолетовых лазеров с длиной волны 355 и 266 нм. Чтобы полностью понять, почему эти лазеры идеально подходят для генерации гармоник, важно рассмотреть фундаментальную физику, лежащую в основе этого нелинейного процесса.0015
Чем мы можем помочь?
Благодаря более чем 25-летнему опыту предоставления ультрафиолетовых лазеров исследователям и OEM-интеграторам, работающим на различных рынках и в различных областях применения, а также более 1000 поступивших на вооружение единиц, мы можем гарантировать, что вы получите правильный продукт для приложения. Сотрудничество с RPMC гарантирует, что вы получите надежные рекомендации от нашего знающего и технического персонала по широкому спектру лазерной продукции. RPMC и наши производители готовы и могут предоставить индивидуальные решения для вашего уникального приложения.
Если у вас есть какие-либо вопросы или вам нужна помощь, свяжитесь с нами здесь. Кроме того, вы можете написать нам по адресу [email protected] , чтобы поговорить со знающим менеджером по продукту.
В качестве альтернативы можно использовать фильтры на этой странице, чтобы сузить выбор ультрафиолетовых лазеров для продажи. Наконец, загляните в наш Центр знаний, где вы найдете нашу страницу Lasers 101, а также страницы блогов, технических документов и часто задаваемых вопросов для более подробного изучения.
Наконец, загляните на нашу страницу «Ограниченное предложение — в наличии — купить сейчас». На этой странице представлен постоянно меняющийся ассортимент различных типов новых лазеров по сниженным ценам.
Показать больше
Показать меньше
Фильтры
Перезагрузить
более
более
10203040
более
более
10203040
Серия жаворонков
Серия сверхнадежных высокопроизводительных одночастотных лазеров Skylark доступна для различных длин волн с высокой средней мощностью, что делает их хорошо подходящими для различных узкоспециализированных научных и промышленных приложений. Технология BRaMMS® обеспечивает превосходную производительность, высокую выходную мощность и выдающиеся характеристики луча при общем компактном размере. Лазеры серии Skylark используются в ряде приложений, включая голографию, метрологию, спектроскопию и квантовые технологии.
Аэро серия
Серия Aero — это высокоэнергетический DPSS-лазер, время работы которого составляет менее 15 наносекунд с несколькими вариантами длины волны, включая 266, 355, 532 и 1064 нм. Эта серия обеспечивает непревзойденную точность даже в самых сложных условиях. Все модели поставляются в чрезвычайно компактном и прочном едином блоке с радиатором с кондуктивным охлаждением, а также с водяным охлаждением. Он поставляется с доступными опциями для расширения луча и коллимационной оптики. Эта серия лазеров идеально подходит для таких приложений, как LIBS, спектроскопия и атмосферный лидар.
Серия CEUV
Серия CEUV представляет собой коммерческую линейку компактных и эффективных лазерных источников DPSS, способных работать в широком диапазоне импульсных условий (скважность и ЧПИ), в корпусе с низким значением SWaP, со средней мощностью до ≈5 Вт при 266 нм. , 10 Вт при 355 нм или 532 нм, 20 Вт при 1064 нм. Эта серия лазеров DPSS обеспечивает сочетание компактных, эффективных и мощных характеристик в прочной конструкции, подходящей для суровых условий и бортовых приложений. Конструкция прошла испытания в латунной фурнитуре и разрабатывается прототип.
Серия ХЛ
Серия HL предлагает универсальные и высококачественные лазерные диоды с различными длинами волн и высокой мощностью, идеально подходящие для прямой визуализации, промышленных и биомедицинских приложений. Эти надежные, эффективные и компактные диоды поставляются в корпусах TO-Can, что делает их идеальными для OEM-интеграции. Кроме того, они работают с колебаниями в режиме TE и соответствуют требованиям RoHS, что обеспечивает безопасное использование. Выберите серию HL из-за качества, надежности и производительности лазерных диодов.
Серия LaserBoxx HPE
Серия LaserBoxx HPE — это универсальная и настраиваемая серия лазерных модулей, которая обеспечивает превосходную производительность и надежность в компактной лазерной головке со встроенным драйвером. Обладая широким диапазоном длин волн от УФ до БИК, эта серия предлагает мощные лазерные диодные модули, которые идеально подходят для различных приложений. Серия LaserBoxx HPE также включает съемные многомодовые оптоволоконные разъемы и специальное управляющее программное обеспечение с интерфейсами USB и RS232, а также внешний контроллер с индикатором мощности, что обеспечивает простую интеграцию и точное управление мощностью и модуляцией.
Серия LaserBoxx с низким уровнем шума
Серия низкошумных диодных лазерных модулей LaserBoxx с низким уровнем шума с различными длинами волн от 375 до 785 нм и выходной мощностью до 350 мВт предлагает настраиваемые лазерные решения для OEM-модулей и модулей plug & play. Благодаря расширенным характеристикам, таким как превосходное качество луча, стабильность и возможности модуляции, наши лазеры обеспечивают сверхнизкий уровень шума и широкий спектр опций для подключения оптоволокна SM, MM и PM. Наше специальное программное обеспечение для управления, интерфейсы USB и RS232, а также внешний контроллер с индикатором мощности упрощают интеграцию, эксплуатацию и удаленную диагностику. Кроме того, наша прочная и компактная конструкция и широкий выбор стандартных длин волн гарантируют, что наши лазеры могут удовлетворить ваши конкретные потребности.
Серия Онда
Серия Onda представляет собой наносекундную OEM-лазерную платформу DPSS, предназначенную для высокотехнологичных приложений, требующих превосходного качества луча и высокой пиковой мощности в таких материалах, как металлы, стекло, пластмассы и различные хрупкие и твердые материалы. Эта компактная и простая в использовании серия лазеров доступна с длинами волн 266, 355, 532 и 1064 нм, с расширенным диапазоном рабочих температур и превосходным соотношением производительности и стоимости. Внутренняя оптическая схема серии Onda и точное управление температурой обеспечивают высокую выходную энергию без ущерба для срока службы каскадов THG и FHG.
Серия Q-TUNE
Серия Q-TUNE — это высокоэффективные лазеры с перестраиваемой длиной волны, предназначенные для исследователей, работающих в области спектроскопии с временным разрешением, метрологии, фотоакустической визуализации и дистанционного зондирования. Этот лазер использует оптический параметрический генератор (OPO) для создания перестраиваемого диапазона длин волн 410-2300 нм с шириной линии менее 6 см-1, которая может быть расширена до 210-410 нм с помощью дополнительного генератора второй гармоники. Имея длительность импульса менее 5 нс и максимальную частоту повторения 100 Гц, серия Q-TUNE обеспечивает идеальный когерентный источник света для точных научных измерений.
Серия Q-SHIFT
Серия Q-SHIFT DPSS-лазеров с модуляцией добротности предназначена для исследователей и специалистов по применению, работающих в области микрообработки, дерматологии, LIDAR, лазерной спектроскопии с временным разрешением и LIBS. Благодаря встроенному каскаду нелинейного преобразования длины волны эта серия позволяет производить нетрадиционные фундаментальные длины волн DPSS, включая варианты 1163, 1177, 1300, 1317, 1551 и 1571 нм, что делает ее идеальным выбором для тех, кто ищет длины волн, недоступные для обычные твердотельные лазерные источники. С дополнительным генератором гармоник можно генерировать до 4-й гармоники для каждой основной длины волны, обеспечивая еще большую универсальность.
Q-искра
Серия Q-SPARK представляет собой лазер с диодной накачкой и модуляцией добротности с воздушным охлаждением, предназначенный для исследователей и специалистов, работающих с абляцией, лидарами, дистанционным зондированием и LIBS. Лазер генерирует субнаносекундные или наносекундные импульсы с пиковой мощностью до 20 МВт и энергией импульса до 10 мДж, что делает его идеальным для широкого спектра применений. Благодаря короткому импульсу <1,5 нс, компактному корпусу с воздушным охлаждением и инновационной безводной технологии торцевой накачки лазерного кристалла серия Q-SPARK обеспечивает высококачественные лазерные лучи с малой расходимостью, подобные Гауссу.
Серия Q1
Серия Q1 представляет собой компактный, энергоэффективный лазер с диодной накачкой, воздушным охлаждением и модуляцией добротности, работающий на длинах волн 1064 и 1053 нм, с энергией импульса до 45 мДж и частотой повторения до 50 Гц. Высокая пиковая мощность и низкая расходимость серии Q1 обеспечивают эффективное преобразование гармоник через 5-ю гармонику (213 или 211 нм). Инновационная конструкция позволяет создать удобную систему «под ключ», которая требует минимального обслуживания, а переменная частота повторения импульсов лазера и встроенный генератор синхроимпульсов обеспечивают гибкость запуска пользовательского оборудования.
Серия Q2
Серия Q2 представляет собой лазер с диодной накачкой, полностью воздушным охлаждением и модуляцией добротности, предназначенный для широкого спектра применений, требующих импульсов высокой пиковой мощности. Его инновационная технология торцевой накачки безводного лазерного кристалла создает гауссовые лазерные лучи с малой расходимостью и высокой пиковой мощностью, что позволяет эффективно преобразовывать гармоники через 5-ю гармонику. Эта универсальная платформа может быть сконфигурирована различными способами, включая энергию импульса до 80 мДж при частоте повторения импульсов 10 Гц или до 20 мДж при частоте повторения импульсов 100 Гц. Лазер может излучать с длиной волны 1053 нм или 1064 нм, а в конфигурации с коротким резонатором длительность импульса может быть уменьшена на 50% по сравнению со стандартной конфигурацией.
Серия Q2HE
Серия Q2HE представляет собой серию высокоэнергетических твердотельных (DPSS) лазеров с модуляцией добротности и диодной накачкой, доступных с основной длиной волны 1053 нм или 1064 нм, с дополнительной генерацией 2-й, 3-й, 4-й или 5-й гармоники. . Эта серия лазеров с воздушным охлаждением предназначена для широкого спектра применений, требующих импульсов высокой пиковой мощности. Благодаря короткому лазерному резонатору, превосходным тепловым свойствам кристалла и инновационной технологии безводного охлаждения кристалла серия Q2HE может обеспечивать энергию импульса до 120 мДж и/или среднюю выходную мощность до 4 Вт. Эта усовершенствованная конструкция лазера позволяет создать компактную, удобную в использовании систему «под ключ», которая требует минимального обслуживания.
Серия РВЛП
Серия RWLP предлагает доступное и универсальное решение для ваших задач лазерного применения с одномодовыми и многомодовыми опциями и длинами волн от 405 нм до ИК-диапазона. Благодаря настраиваемым параметрам наша команда может помочь вам решить любые проблемы, с которыми вы можете столкнуться. Серия RWLP, прошедшая строгие испытания на надежность в течение длительного времени, обеспечивает стабильную производительность и высокое качество луча. Эта серия идеально подходит для интеграции и поддерживает множество приложений, включая биологические и аналитические приборы.
Серия микросхем
Серия Microchip представляет собой линейку сверхкомпактных лазеров с пассивной модуляцией добротности, однопродольной моды (SLM), узкой ширины линии, DPSS-лазеров, которые обеспечивают исключительную производительность в компактном форм-факторе. Лазеры имеют длительность импульса от 400 пс до 2 нс, уровень энергии до 80 мкДж и частоту следования до 100 кГц. Доступные в диапазоне длин волн от УФ до БИК, эта серия предназначена для OEM-интеграторов и исследователей, работающих с LIDAR, 3D-сканированием, LIBS, приборами ночного видения и т. д. Лазеры предлагают как наносекундные, так и пикосекундные варианты и взаимозаменяемы с одинаковым форм-фактором и электрическими и программными интерфейсами для разных длин волн, что делает их гибким и универсальным решением.
Серия СОЛ
Серия SOL представляет собой самый компактный наносекундный лазер DPSS с воздушным охлаждением и модуляцией добротности в диапазоне мощностей от 4 Вт до 40 Вт при 1064 нм. Лазеры серии SOL, доступные на длинах волн 1064 нм, 532 нм и 355 нм, обеспечивают превосходное качество луча и высокую пиковую мощность до 10 Вт и 650 мкДж на длине волны 532 нм и 4 Вт на длине волны 355 нм, что делает их идеальным источником для самых требовательных промышленных и научных приложений. Благодаря прочной, компактной, легкой и простой в использовании конструкции лазер SOL легко интегрируется в приложения микрообработки и маркировки, обеспечивая превосходную эксплуатационную гибкость и соотношение производительности и стоимости.
Клин серии
Серия Wedge представляет собой линейку лазеров DPSS, разработанных специально для OEM-применений, таких как микрообработка твердых и мягких материалов, специальная маркировка, гравировка стекла и кристаллов, LIDAR, LIBS, спектроскопия и медицинская диагностика. Эти лазеры с диодной накачкой, основанные на запатентованной технологии быстрой модуляции добротности, компактны, герметичны и монолитны, что делает их нечувствительными к вибрациям и неблагоприятным условиям окружающей среды. Обладая высокой пиковой мощностью и относительно низким выделением энергии и тепла, они обеспечивают эффективную абляцию и нелинейное взаимодействие с большинством материалов. Компактный и легкий корпус является большим преимуществом в лидарах и других аэрокосмических приложениях, а короткие импульсы обеспечивают чрезвычайно точные измерения времени пролета.
Ультрафиолетовые лазеры, объяснение в энциклопедии RP Photonics; цериевый лазер
Технология лазеров для генерации ультрафиолетового излучения связана с рядом проблем:
- Для коротких длин волн сильное спонтанное излучение приводит к высокой пороговой мощности накачки (за исключением случаев, когда ширина полосы усиления узкая).
- Для длин волн ниже ≈ 200 нм выбор прозрачных и устойчивых к УФ-излучению оптических материалов довольно ограничен (см. статью об ультрафиолетовом свете).
- Даже незначительная шероховатость поверхности или содержание пузырьков в оптических компонентах могут привести к сильным искажениям волнового фронта и потерям на рассеяние.
Тем не менее, существуют различные виды лазеров, которые могут непосредственно генерировать ультрафиолетовый свет:
- Существуют лазерные диоды , обычно на основе нитрида галлия (GaN), излучающие в ближней ультрафиолетовой области.
Однако доступные уровни мощности ограничены. - Некоторые объемные твердотельные лазеры , например на основе кристаллов, легированных церием, таких как Ce 3+ : LiCAF или Ce 3+ : LiLuF 4 , могут излучать ультрафиолетовый свет.
Лазеры на церии в большинстве случаев накачиваются наносекундными импульсами от лазера с четырехкратной модуляцией добротности и, таким образом, сами излучают наносекундные импульсы.
С микрочиповыми лазерами с модуляцией добротности возможна даже длительность импульса менее наносекунды.
Также была продемонстрирована работа с синхронизацией мод [14]. - Немногие волоконные лазеры могут генерировать ультрафиолетовый свет [10].
Например, некоторые фторидные волокна, легированные неодимом, можно использовать для лазеров с длиной волны около 380 нм, но только при низких уровнях мощности. - Хотя большинство лазеров на красителях излучают видимый свет, некоторые лазерные красители подходят для ультрафиолетового излучения.
- Эксимерные лазеры являются очень мощными источниками УФ-излучения, также испускающими наносекундные импульсы, но со средней выходной мощностью от нескольких ватт до сотен ватт.
Типичные длины волн составляют от 157 нм (F 2 ) до 351 нм (XeF). - Аргоновые ионные лазеры могут непрерывно излучать на длинах волн 334 и 351 нм, хотя и с меньшей мощностью, чем на обычной линии 514 нм.
Некоторые другие ультрафиолетовые линии доступны с криптоновыми ионными лазерами. - Существуют также ионные лазеры , излучающие в крайней ультрафиолетовой области спектра.
Они могут быть основаны, например, на аргоне, но в отличие от обычных аргоновых ионных лазеров они работают на ионах Ar 8+ , генерируемых в гораздо более горячей плазме.
Затем эмиссия происходит при 46,9 нм.
Такие лазеры могут накачиваться либо капиллярным разрядом, либо интенсивным лазерным импульсом. - Азотные лазеры представляют собой молекулярные газовые лазеры, излучающие в ультрафиолетовом диапазоне.
Самая сильная эмиссионная линия находится на 337,1 нм. - Лазеры на свободных электронах могут излучать ультрафиолетовый свет практически любой длины волны и с высокой средней мощностью.
Однако они являются очень дорогими и громоздкими источниками и поэтому не очень широко используются.
Помимо реальных ультрафиолетовых лазеров существуют ультрафиолетовые лазерные источники на основе лазера с большей длиной волны (в видимой или ближней инфракрасной области спектра) и одного или нескольких нелинейных кристаллов для нелинейного преобразования частоты .
Некоторые примеры:
- Длина волны 355 нм может быть получена за счет утроения частоты лазера Nd:YAG или Nd:YVO 4 с длиной волны 1064 нм.
- 266-нм свет получается с двумя последовательными удвоителями частоты, которые фактически увеличивают частоту лазера в четыре раза.
- 213-нм свет соответствует 5-й -й -й гармонике 1064 нм, полученной путем утроения или учетверения частоты плюс генерация суммарной частоты.
В целом такое преобразование может быть не очень эффективным, но для некоторых приложений достаточно относительно низкой выходной мощности. - Диодные лазеры могут быть оснащены каскадами нелинейного преобразования частоты для получения УФ-излучения.
Например, можно использовать непрерывный лазер ближнего инфракрасного диапазона и дважды применить удвоение резонансной частоты, достигнув длин волн около 300 нм.
Основная привлекательность этого подхода заключается в том, что доступен широкий диапазон длин волн без ограничений для определенных лазерных линий.
Ультрафиолетовые лазеры должны изготавливаться со специальной ультрафиолетовой оптикой, обладающей высоким оптическим качеством и (особенно для импульсных лазеров) высокой устойчивостью к УФ-излучению.
В некоторых случаях срок службы УФ-лазера ограничивается сроком службы используемых оптических элементов, таких как лазерные зеркала.
Для крайнего ультрафиолетового диапазона существуют источники на основе генерации высоких гармоник .
Такие источники могут достигать длин волн до нескольких нанометров, но при этом иметь настольный формат.
Однако средняя выходная мощность довольно низкая.
Волоконная муфта
Доставка ультрафиолетового излучения по оптическим волокнам возможна даже на относительно коротких длинах волн, но имеет более серьезные ограничения по сравнению с источниками для видимой или инфракрасной области спектра.
Например, кварцевые волокна могут подвергаться существенной деградации (называемой соляризацией) при воздействии коротковолнового света, но эта тенденция сильно зависит от химического состава плавленого кварца.
Также предпринимаются попытки использовать полые волокна для пропускания УФ-излучения; Основная идея состоит в том, чтобы большая часть УФ-излучения находилась в воздушном ядре, лишь немного перекрываясь с кварцевым материалом, обеспечивающим направление.
Этот принцип можно использовать даже в тех областях длин волн, где поглощение плавленого кварца существенно.
Области применения
Ультрафиолетовые лазеры находят различные применения:
- Импульсные мощные ультрафиолетовые лазеры могут использоваться для эффективной резки и сверления небольших отверстий в различных материалах, включая материалы, прозрачные для видимого света.
Они занимают значительную долю рынка в области лазерной микрообработки, несмотря на более высокую стоимость по сравнению с инфракрасными лазерными источниками. - Высокоэнергетические УФ-импульсы используются для метода спектроскопии лазерного пробоя.
- При гораздо более низкой энергии импульса в точно сфокусированном луче один, например. сделать микродиссекцию биологических материалов под микроскопом или провести фотолюминесцентный анализ (измерение времени жизни флуоресценции).
- Непрерывные УФ-источники необходимы для микролитографии и для контроля пластин, например. в контексте производства полупроводниковых микросхем.
Еще одним приложением является УФ-спектроскопия комбинационного рассеяния. - Для изготовления волоконных брэгговских решеток используются как непрерывные, так и импульсные УФ-лазеры.
- Некоторые методы глазной хирургии, в частности рефракционная лазерная хирургия роговицы глаза в форме LASIK, требуют УФ (иногда даже глубокого УФ) лазерных источников.
Ультрафиолетовые лазерные источники связаны с некоторыми особыми опасностями, в основном связанными с риском повреждения глаз и раком кожи.
В статье о лазерной безопасности приводятся некоторые подробности.
Проблемы со сроком службы
По сравнению с инфракрасными и видимыми лазерными источниками, ультрафиолетовые лазерные источники предположительно имеют больше проблем с ограниченным сроком службы устройства.
В основном это связано с тем, что различные оптические материалы (например, лазерные кристаллы, нелинейные кристаллы и оптические элементы) демонстрируют эффекты деградации, вызванные поглощением ультрафиолетового света.
Еще одна проблема, с которой иногда приходится сталкиваться, заключается в том, что углеводороды, возникающие, например, в результате от газовыделения смазочных материалов оправ зеркал, разлагаются под действием ультрафиолета, что может привести к отложению черного нагара на оптических элементах.
Такие вопросы необходимо тщательно рассматривать при разработке продукта, чтобы реализовать основной потенциал длительного срока службы конкретного типа лазера.
Поставщики
В Руководстве покупателя RP Photonics указаны 89 поставщиков ультрафиолетовых лазеров. Среди них:
LightMachinery
Эксимерные лазеры LightMachinery являются мощными и надежными источниками ультрафиолетового излучения. Теперь они оснащены технологией exciPure™, представленной в 2016 году; exiPure обеспечивает максимальное увеличение срока службы эксимерного газа и снижение эксплуатационных расходов за одно поколение.
IPEX-700 Seris предназначен для работы со средним рабочим циклом в промышленных и научно-исследовательских средах. Эти лазеры обеспечивают обработку ультрафиолетовым лазером высокой мощности в сочетании с самой современной производительностью. Они идеально подходят для таких приложений, как импульсное лазерное напыление.
Серия IPEX-800 предназначена для работы в условиях высокой нагрузки в производственных условиях. Эти лазеры обеспечивают обработку ультрафиолетовым лазером высокой мощности в сочетании с самой современной производительностью. Они обеспечивают длительный срок службы газа, превосходную оптическую стабильность и точный контроль рабочих параметров лазера. Простые в использовании, простые в обслуживании и экономичные в эксплуатации, они сочетают в себе преимущества высокоточной эксимерной обработки с самой низкой совокупной стоимостью владения и самым высоким временем безотказной работы на современном рынке.
TOPTICA Photonics
TOPTICA предлагает лазеры в УФ-диапазоне от 190 нм до 390 нм. Запатентованная технология и высокотехнологичные производственные возможности для чистых помещений обеспечивают стабильную долгосрочную работу на всех длинах волн.
Sacher Lasertechnik
Sacher Lasertechnik разработала лазерную систему с удвоением частоты, в которой резонансный резонатор, включающий кристалл удвоителя частоты, накачивается перестраиваемым диодным лазером. В зависимости от требуемой мощности ГВГ перестраиваемый диодный лазер представляет собой либо мощный лазер с внешним резонатором, либо двухкаскадную систему усилителя мощности задающего генератора. Охватываемый диапазон длин волн составляет от 365 нм до 540 нм.
Sacher Lasertechnik также предлагает УФ-лазер Jaguar, систему MOPA с генерацией четвертой гармоники для выходных длин волн от 205 нм до 270 нм.
Активные волоконно-оптические системы
Многие приложения выигрывают от центральных длин волн в видимом или ультрафиолетовом диапазоне. AFS предлагает полностью интегрированные модули преобразования частоты от 1030 нм до 515 нм, 343 нм или даже 258 нм. Эффективность преобразования зависит от длительности импульса возбуждающего лазера. По запросу мы предлагаем генерацию четвертой гармоники.
GWU-Lasertechnik
GWU-Lasertechnik имеет более чем 30-летний опыт работы с лазерами и нелинейной оптикой. Мы пионеры коммерческой технологии BBO OPO. Наши широко настраиваемые лазерные источники охватывают, в частности, УФ- и глубокий УФ-диапазоны вплоть до длины волны <190 нм. Мы предлагаем импульсные решения для нано-, пико- и фемтосекундных импульсов с лучшими характеристиками и высочайшей надежностью. Наша прочная и тщательно протестированная полностью твердотельная лазерная технология не требует расходных материалов и, таким образом, обеспечивает максимальное удобство использования, максимально длительный срок службы и превосходную совокупную стоимость владения. Обладая огромной гибкостью и огромной универсальностью, лазерные продукты GWU могут удовлетворить потребности даже самых требовательных научных и промышленных приложений.
Kapteyn-Murnane Laboratories
KMLabs Hyperion VUV обеспечивает яркие фемтосекундные импульсы на различных длинах волн в области вакуумного ультрафиолета (VUV), от 6,0 эВ (205 нм) до 10,8 эВ (115 нм). Дискретная перестраиваемость вакуумного источника ультрафиолетового излучения KMLabs Hyperion VUV позволяет исследователям изучать широкий спектр материалов и свойств материалов. Простое, выбранное компьютером изменение энергии фотона обеспечивает мощную возможность, ранее доступную только на синхротроне; эта способность легко изменять длину волны лазера может улучшить многие эксперименты. Например, в экспериментах по фотоэмиссии с угловым разрешением (ARPES) эта возможность настройки позволяет исследователям отличать поверхностные эффекты от объемных. При изучении молекул методом времени пролета (ToF) перестраиваемость позволяет различать идентичные в остальном изомеры. Hyperion VUV также хорошо фокусируется, и с помощью соответствующей оптики можно получить пятно размером менее 10 микрон.
HÜBNER Photonics
HÜBNER Photonics предлагает УФ-лазеры серий Cobolt 05-01 и 06-01 с длиной волны 355 нм (одночастотный или с модуляцией добротности)) или 375 нм (непрерывный диодный лазер).
NKT Photonics
У нас есть различные УФ-лазеры. Мощные волоконные УФ-лазеры Koheras HARMONIK обычно используются для работы с длинами волн атомов стронция и иттербия. Высокоэнергетический фемтосекундный лазер ORIGAMI XP поставляется с УФ-опцией. Он обеспечивает чистую ультракороткую длительность импульса, превосходное качество луча и беспрецедентную направленность луча. А импульсный диодный лазер PILAS PiL037 с переключаемым коэффициентом усиления предлагает триггерные импульсы длительностью до 20 пс на длине волны 375 нм.
DRS Daylight Solutions
Наши ультрафиолетовые лазерные модули H-Model представляют собой универсальные и компактные источники УФ-излучения:
- оптоволоконный выход
- Уровни мощности непрерывного излучения до 4 Вт на 405 нм или 1 Вт на 375 нм
- Непрерывное излучение или импульсный режим работы
- повышенной прочности для суровых условий
Применяется для обнаружения химических и биологических веществ, очистки воды, дезинфекции, обработки кожи и флуоресцентной визуализации.
Франкфуртская лазерная компания
Франкфуртская лазерная компания предлагает ультрафиолетовые и фиолетовые лазерные диоды с длиной волны излучения от 370 нм до 420 нм.
Teem Photonics
Субнаносекундные микрочип-лазеры с пассивной модуляцией добротности доступны с длинами волн излучения 355 нм и 266 нм.
Для более высокой пиковой мощности мы предлагаем лазеры PNU-M01210-1×0 с длиной волны 266 нм, входящие в серию Powerchip, которые также доступны с различными длинами волн, включая 355 нм, 266 нм и 213 нм. Генерируются пиковые мощности в десятки киловатт (или даже 160 кВт на длине волны 1064 нм), а длительность импульса всегда намного меньше наносекунды. В этих лазерах используется особый процесс длительного срока службы для увеличения срока службы между ремонтами.
CNI Laser
CNI предлагает различные ультрафиолетовые лазеры (диодные лазеры и твердотельные лазеры с диодной накачкой) с различными длинами волн от 213 нм до 349 нм. Выходная мощность до 3 Вт, энергия в импульсе до 10 мДж. Лазерные продукты включают 5 серий: высокая энергия, высокая мощность, высокая стабильность, низкий уровень шума и лазер с одной продольной модой.
ALPHALAS
Большинство импульсных лазеров, предлагаемых ALPHALAS, опционально доступны с гармониками в УФ-диапазоне:
- третья гармоника (315, 343, 349, 351, 355 нм)
- четвертая гармоника (236, 257, 262, 263, 266 нм)
с длительностью импульса от пикосекунд (серия PICOnoPOWER) до субсекунд наносекунда (серия PULSELAS-A/P). В то время как субнаносекундные микрочиповые УФ-лазеры с пассивной модуляцией добротности являются лучшей альтернативой для недорогой и не требующей технического обслуживания работы, пикосекундные лазеры с регенеративным усилением с гармоническим тройным и учетверенным усилением обеспечивают очень высокую пиковую мощность для обработки материалов и нелинейно-оптических приложений.
Photonics Industries
«Photonics Industries предлагает УФ-наносекундные лазеры, пикосекундные лазеры, субнаносекундные лазеры и фемтосекундные лазеры. Также доступны многомодовые УФ-лазеры с высокой энергией импульса.
RPMC Lasers
RPMC Lasers предлагает широкий спектр ультрафиолетовых лазеров диоды и лазеры DPSS от 200 нм до 389 нм. Мы предлагаем импульсные и непрерывные лазеры и модули, доступные с выходной мощностью от 1 мВт до 20 Вт, энергией импульса от 200 нДж до 35 мДж, а также в свободном пространстве и с волоконной связью варианты вывода, а также варианты упаковки на всех уровнях интеграции от ТО может до систем «под ключ».
Вопросы и комментарии от пользователей
Здесь вы можете задать вопросы и комментарии. Если они будут приняты автором, они появятся над этим абзацем вместе с ответом автора. Автор принимает решение о принятии на основе определенных критериев. По существу, вопрос должен представлять достаточно широкий интерес.
Пожалуйста, не вводите здесь личные данные; в противном случае мы бы удалили его в ближайшее время. (См. также нашу декларацию о конфиденциальности.) Если вы хотите получить личную обратную связь или консультацию от автора, свяжитесь с ним, например. по электронной почте.
Ваш вопрос или комментарий:
Проверка на спам:
(Пожалуйста, введите сумму тринадцати и трех в виде цифр!)
Отправляя информацию, вы даете свое согласие на возможную публикацию ваших материалов на нашем веб-сайте в соответствии с нашими правилами. (Если вы позже отзовете свое согласие, мы удалим эти материалы.) Поскольку ваши материалы сначала просматриваются автором, они могут быть опубликованы с некоторой задержкой.
Библиография
[1] | П. К. Чео и Х. Г. Купер, «Ультрафиолетовый ионный лазер, переходы между 2300 и 4000 Å», J. Appl. физ. 36 (6), 1862 (1965), doi:10.1063/1.1714367 |
[2] | H. Furumoto and H. Ceccon, «Ультрафиолетовые лазеры на органических жидкостях», IEEE J. Quantum Electron. 6 (5), 262 (1970), doi:10.1109/JQE.1970.1076451 |
[3] | C. Rhodes, «Обзор ультрафиолетовых лазеров», IEEE J. Quantum Electron. 9 (6), 647 (1973), doi: 10.1109/JQE.1973.1077652 |
[4] | Д. Дж. Эрлих и др. , «Лазер Ce:LaF 3 с оптической накачкой на длине волны 286 нм», Опт. лат. 5 (8), 339 (1980), doi:10.1364/OL.5.000339 |
[5] | R.W. Waynant, P.H. 3 », заявл. физ. лат. 46, 14 (1985), doi:10.1063/1.95833 |
[6] | Y. Taira, «Мощная непрерывная ультрафиолетовая генерация за счет удвоения частоты аргонового лазера», Jpn. Дж. Заявл. физ. 31, Л682 (1992), doi:10.1143/JJAP.31.L682 |
[7] | S. C. Tidwell et al. , «Эффективное мощное УФ-генерирование с использованием резонансного кольца, приводимого в действие ИК-лазером непрерывной синхронизации с синхронизацией мод», Опт. лат. 18 (18), 1517 (1993), doi:10.1364/OL.18.001517 |
[8] | J. F. Pinto et al. , «Перестраиваемый твердотельный лазер на Ce 3+ : LiSrAlF 6 », Электрон. лат. 30, 240 (1994), doi:10.1049/el:19940158 |
[9] | С. М. Хукер и К. Э. Уэбб, «Прогресс в вакуумных ультрафиолетовых лазерах», Prog. Квантовый электрон. 18 (3), 227 (1994), doi:10.1016/0079-6727(94)
|
[10] | Функ Д.С., Иден Дж.Г. Стекловолоконные лазеры в ультрафиолетовом и видимом диапазоне, Дж. Сел. Вершина. Квантовый электрон. 1 (3), 784 (1995), doi:10.1109/2944.473660 |
[11] | T. Kojima et al. , «Генерация ультрафиолетового луча мощностью 20 Вт с помощью генерации четвертой гармоники полностью твердотельным лазером», Опт. лат. 25 (1), 58 (2000), doi:10.1364/OL.25.000058 |
[12] | C. Gohle и др. , «Грабенка частот в крайнем ультрафиолете», Nature 436, 234 (2005), doi:10.1038/nature03851 |
[13] | H. Liu et al. , «Миниатюрные ультрафиолетовые лазеры LiLuF, легированные церием, с широкой перестройкой», Опт. Express 16 (3), 2226 (2008), doi:10.1364/OE.16.002226 |
[14] | E. Granados et al. , «Глубокий ультрафиолетовый лазер Ce:LiCAF с синхронизацией мод», Opt. лат. 34 (11), 1660 (2009 г.)), doi:10.1364/OL.34.001660 |
[15] | J. Rothhardt et al. , «Фемтосекундный лазер средней мощности 100 Вт на длине волны 343 нм», Opt. лат. 41 (8), 1885 (2016), doi:10.1364/OL.41.001885 |
[16] | U. Eismann et al. , «Активная и пассивная стабилизация мощного УФ-диодного лазера с удвоенной частотой», arXiv:1606. 07670v1 (2016) |
[17] | Q. Fu et al. , «Мощный, высокоэффективный лазер глубокого УФ излучения с длиной волны 260 нм и лазерной накачкой для дезактивации бактерий», Opt. Экспресс 29(26), 42485 (2021), doi:10.1364/OE.441248 |
[18] | Y. Orii et al. , «Стабильная работа лазера глубокого ультрафиолетового излучения мощностью 20 Вт на длине волны 266 нм в течение 10 000 часов», Опт. Express 30 (7), 11797 (2022), doi:10.1364/OE.454643 |
(Предложите дополнительную литературу!)
См. также: ультрафиолетовое излучение, лазеры, эксимерные лазеры, лазеры на свободных электронах, синие лазеры, лазерная безопасность
и другие статьи в категории Лазерные устройства и лазерная физика
Если вы хотите разместить ссылку на эту статью на каком-либо другом ресурсе (например, на своем сайте, в социальных сетях, на дискуссионном форуме, в Википедии), вы можете получить необходимый код здесь.
Всего комментариев: 0